DHMS 系列 磁控溅射镀膜仪
可采用直流（DC）溅射，溅射金属靶材制备金属膜，也可采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜。可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。
技术参数
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可采用直流（DC）溅射，溅射金属靶材制备金属膜，也可采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜。可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。
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