DH-CVD-XX 系列 气氛热处理程控高温炉
本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统，供气系统于一体，应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等；也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制备薄膜，如制备庞磁电阻薄膜，制备高温超导薄膜等；固相反应法材料合成；在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理。
设备规格及配置
本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统，供气系统于一体，应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等；也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制备薄膜，如制备庞磁电阻薄膜，制备高温超导薄膜等；固相反应法材料合成；在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理。
设备规格及配置
